+7 (846) 274-02-02
Есть вопросы? Мы ответим!

icq 432184390 432184390
E-mail: plasma@megamir.ru
Телефон: (846) 274-02-20
задать вопрос с сайта


Наши предложения Оформить заказ О компании Статьи Контакты

Стандартное оборудование, используемое при порошковом плазменном напылении

Плазменное покрытие отличается от других технологических газотермических покрытий улучшенными эксплуатационными показателями, но сама возможность нанесения плазменного покрытия и его эксплуатационная добротность реализуется только в условиях современного производства с высоким уровнем культуры прогрессивных технологий, участвующих в технологической цепочке плазменного напыления.

Для производства плазменных покрытий используют дуговые, высокочастотные и сверхвысокочастотные плазмотроны. Разнообразные конструкции существующих дуговых плазмотронов подразделяется, в основном, по следующим признакам: по характеру питающего тока - на плазмотроны постоянного и переменного тока; по количеству одновременно горящих дуг - на однодуговые, с распределенной дугой, и многодуговые; по способу фиксации длины дуги - на плазмотроны с самоустанавливающейся и фиксированной длиной дуги. В настоящее время для напыления широко используются лишь однодуговые плазмотроны и плазмотроны постоянного тока с самоустанавливающейся длиной дуги (длина определяется процессами шунтирования дуги электропроводящей стенкой канала сопла).

В комплект установок для напыления покрытий помимо плазмотрона входят: источник питания, пульт управления, бункер-питатель (дозатор) для образования газопорошковой смеси и подачи ее в плазмотрон, газовые, водяные и токоподводящие магистрали, баллоны со сжатыми газами .

Плазменное напыление МегаМир® :: технологии завтра сегодня ® :: ионно-плазменное напыление, микроплазменное напыление, напыление зубов - Самара

                    

Плазменное напыление МегаМир® :: технологии завтра сегодня ® :: ионно-плазменное напыление, микроплазменное напыление, напыление зубов - Самара

Конструкция плазменного распылителя: 1-подвод постоянного тока и охлаждающей воды; 2-охлаждающая вода; 3-вольфрамовый катод; 4-медный катод; 5-изолятор; 6-рабочий газ; 7-рукоятка, 8-подача порошкового материала. Принципиальная схема установки плазменного напыления: 1-транспортный газ; 2-рабочий газ; 3-охлаждающая вода; 4-источник питания; 5-пульт управления; 6-порошковый питатель; 7-плазмотрон; 8-струя; 9-покрытие; 10-подложка; 11-подвод порошка, энергии воды, рабочего газа в плазмотрон.

 

Наиболее распространенные плазмообразующие газы - аргон, азот, водород к их смеси. Чистый аргон по его воздействию на материал покрытия и подложки является наиболее благоприятным газом. Однако вследствие того, что аргон имеет невысокое теплосодержание и низкую теплопроводность, он применяется, главным образом, при распылении проволочных материалов. Для напыления порошковых материалов используется смеси аргона с двухатомными газами - водородом, гелием и азотом, а также чистый азот и его смесь с водородом.

Для питания дуговых плазмотронов постоянного тока наибольшее распространение получили источники питания с крутопадающей внешней характеристикой. Достоинствами таких источников является удовлетворительное качество выпрямленного тока, плавный и широкий диапазон регулирования, слабое, влияние на форму кривой напряжения питающей сети. Однако, отличаясь сложностью конструкции, они обладают большой инерционностью и практически не поддаются автоматизации с целью стабилизации процесса напыления. Перспективно применение источников питания на тиристорах с регулируемым углом открывания тиристоров относительно начала синусоиды напряжения питающей сети. Изменяя по фазе угол открывания тиристоров, можно регулировать значение выпрямленного напряжения и тока. Выпрямитель, собранный на тиристорах, исключает необходимость в дополнительных регулирующих силовых элементах. Подбор источника питания для плазменного напыления производится путем согласования вольтамперных характеристик источника и плазмотрона. Для обобщения вольтамперных характеристик используется большое число критериев подобия, полученных в соответствии с дифференциальными уравнениями, описывающими горение дуги в потоке газа.

Расход подаваемого в плазмотрон порошка регулируется дозирующим устройством, в качестве которого используют инжекторы (расход порошка зависит от расхода транспортирующего газа), вращающиеся вертикальные и горизонтальные барабаны с пазами, шнеками и т.п. Для подачи проволочных материалов в плазмотрон используют механизмы, аналогичные по конструкции механизмам подачи проволоки в сварочных автоматах.

 
© МегаМир, 2009-2011 г.
идея и проект - группа компаний МегаМир®
разработка сайта, реклама в интернет - МегаМир®
Наши предложения |Оформить заказ |О компании |Статьи |Контакты МегаМир ® :: технологии застра сегодня ®